蚀刻原理：硝酸铈铵中的铈离子为 + 4 价，具有强氧化性。在酸性环境下，\(Ce^{4+}\)的标准电极电势在 1.61V 左右，其能够与许多金属发生氧化还原反应，比如可以把金属铬从 0 价氧化为 Cr (VI)，从而让金属溶解，实现蚀刻目的 。
常见应用领域铬金属蚀刻：硝酸铈铵是制备铬蚀刻液的常用原料，市售的铬蚀刻液常为硝酸铈铵水溶液中加入高氯酸或硝酸的混合液。同时为进一步提升刻蚀效果，部分蚀刻液配方还会添加非氧化性酸、过氧化氢、稳定剂等成分 。
其他金属及合金蚀刻：它还可用于蚀刻铝、铜、镍以及镍铬合金等材料，通常也需要搭配其他酸性物质组成蚀刻体系，如镍铬合金蚀刻剂就是硝酸铈铵和硝酸的混合构成的高纯度蚀刻体系。
半导体材料加工：在半导体产业里，硝酸铈铵基蚀刻剂可以用于 GaAs 等半导体材料蚀刻，同时也能对硅、钽 / TaN 等材料进行表面氧化处理，以满足半导体器件特定的工艺制造需求 。
腐刻优势：硝酸铈铵蚀刻精度相对较高，能够实现精细的蚀刻图案，对于一些对蚀刻精度要求高的电子元件制造，如集成电路板制作等，硝酸铈铵蚀刻液可较好地满足其需求。
