HYMP-2DE金相试样磨抛机
一、 产品简述
HYMP-2DE型金相试样磨抛机为双盘台式机，具备单盘独立控制及盘的旋转方向可任意选择和磨抛盘可快速更换的功能。本机采用了先进的微处理器控制系统，可使磨、抛盘均能获得50-600转/分钟之间的转速且相互不干扰，可供两人同时使用并分别进行磨、抛工序的操作,从而使本机展现了更加广泛的应用性。本机具有转动平稳、安全可靠、结构紧凑和噪音低等特点，且带有水冷却装置，可以在研磨时对试样进行冷却，以防止因试样过热而破坏金相组织；再配以ABS外壳和不锈钢标准件，在外观上更加美观大方，并提高了防腐、防锈性能且易清洁。本机适用于对金相试样进行粗磨、精磨、粗抛光至精抛光的制样，是企业、科研单位以及大专院校实验室的理想制样设备。
二、HYMP-2DE主要技术指标
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1 |
磨抛盘直径 |
φ203mm、φ250mm（用户可任选其一） |
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2 |
磨抛盘转速 |
50-600r/min（无级变速） 150r/min、300r/min（两级定速） |
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3 |
输入电压 |
单相 AC220V 50Hz |
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4 |
输入功率 |
250W |
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5 |
外形尺寸 |
690×735×310mm |
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6 |
净重 |
55kg |
